RIERA ARÉVALO, Lucia. Vuelta, fuga y punto de retorno: sistematización de un proceso creativo en cine. Márgenes. Espacio Arte y Sociedad, [S. l.], v. 16, n. 25, p. 123–135, 2024. DOI: 10.22370/margenes.2023.16.24.3899. Disponível em: https://revistas.uv.cl/index.php/margenes/article/view/3899. Acesso em: 2 oct. 2025.